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        真空化學氣相沉積爐

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        真空化學氣相沉積爐 GCVD-0510
         

        產品概述:

        化學氣相沉積爐由沉積室、供氣系統和排氣系統組成,是以電阻加熱或者感應加熱的方式,在真空環境下,通入沉積氣體,并在高溫下產生裂解后沉積到工件上,使復合材料得到致密化處理的生產設備。

         

        應用領域:碳碳制品、熱解石墨、耐熱物質涂層、粉末合成

         

        功能特點:操作簡單、維護方便、可制備多種類型涂層及復合材料、產品致密均勻,純度和晶粒度高

         

        性能參數:

         
         
        可根據客戶工藝和生產要求特殊定制
         

        產品及應用

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